Radioelektronikos terminų žodynas. – Vilnius : BĮ UAB „Litimo“. Kazimieras Gaivenis, Gytis Juška, Vidas Kalesinskas. 2000.
Chemische Gasphasenabscheidung — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapour deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen und… … Deutsch Wikipedia
cheminis nusodinimas iš silano garų — statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. silane chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Silan Gasphase, f rus. химическое осаждение из паровой фазы силана, n pranc. dépôt chimique en phase vapeur de silane, m … Radioelektronikos terminų žodynas
dépôt chimique en phase vapeur de silane — cheminis nusodinimas iš silano garų statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. silane chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Silan Gasphase, f rus. химическое осаждение из паровой фазы силана, n pranc. dépôt… … Radioelektronikos terminų žodynas
silane chemical vapor deposition — cheminis nusodinimas iš silano garų statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. silane chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Silan Gasphase, f rus. химическое осаждение из паровой фазы силана, n pranc. dépôt… … Radioelektronikos terminų žodynas
химическое осаждение из паровой фазы силана — cheminis nusodinimas iš silano garų statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. silane chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Silan Gasphase, f rus. химическое осаждение из паровой фазы силана, n pranc. dépôt… … Radioelektronikos terminų žodynas
Chemical Vapour Deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapor deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapour deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
E551 — Strukturformel Keine Strukturformel vorhanden Allgemeines Name Siliciumdioxid Andere Namen Siliziumoxid, Siliziumdioxid Summenformel SiO2 … Deutsch Wikipedia
E 551 — Strukturformel Keine Strukturformel vorhanden Allgemeines Name Siliciumdioxid Andere Namen Siliziumoxid, Siliziumdioxid Summenformel SiO2 … Deutsch Wikipedia
